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半導(dǎo)體設(shè)備系列:從KLA看量測設(shè)備的護城河

作者:金融界 來源: 頭條號 97201/05

半導(dǎo)體設(shè)備呈現(xiàn)周期波動,2016~2021年經(jīng)歷了5年快速成長期,驅(qū)動力來自產(chǎn)能的擴張、技術(shù)節(jié)點的進步。2005~2021年半導(dǎo)體裝備市場CARG=7.4%,呈現(xiàn)了周期波動的特征,2016年行業(yè)進入快速成長期,2016~2021年CARG=

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半導(dǎo)體設(shè)備呈現(xiàn)周期波動,2016~2021年經(jīng)歷了5年快速成長期,驅(qū)動力來自產(chǎn)能的擴張、技術(shù)節(jié)點的進步。2005~2021年半導(dǎo)體裝備市場CARG=7.4%,呈現(xiàn)了周期波動的特征,2016年行業(yè)進入快速成長期,2016~2021年CARG=20%。半導(dǎo)體量測設(shè)備,2021年市場規(guī)模77.9億美元, 2016~2021年CARG=19%,遠(yuǎn)高于2005~2015年6.6%的復(fù)合增速。成長提速的驅(qū)動力:1)終端需求多樣化帶來產(chǎn)能的持續(xù)擴張;2)工藝的進步:7nm及以下節(jié)點量產(chǎn),往邏輯器件的FinFET和GAA(Gate-All-Around)結(jié)構(gòu)邁進。行業(yè)龍頭KLA將21~26年的長期復(fù)合增長目標(biāo)設(shè)定為9~11%。

為了提升良率和產(chǎn)能,所有芯片制造階段都需要過程控制,研發(fā)和HVM的挑戰(zhàn)體現(xiàn)在精確度和速度上。1)更高的空間分辨精度。目前最先進的檢測和量測設(shè)備所使用的光源波長已包含 DUV 波段,能夠穩(wěn)定地檢測到小于14nm的晶圓缺陷,能夠?qū)崿F(xiàn) 0.003nm的膜厚測量重復(fù)性。光學(xué)檢測技術(shù)發(fā)展的重要趨勢包括:檢測系統(tǒng)光源波長下限進一步減小和波長范圍進一步拓寬、提高光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑以提升光學(xué)分辨率。2)提升檢測速度和吞吐量,降低集成電路制造廠商的平均晶圓檢測成本,實現(xiàn)降本增效。3)大數(shù)據(jù)檢測算法和軟件重要性凸顯。技術(shù)手段光學(xué)檢測(占比75%)占主導(dǎo),電子束檢測技術(shù)作為輔助,核心技術(shù)涉及光學(xué)、圖像分析算法、大數(shù)據(jù)檢測算法及精密運動控制及軟件等。

2020年全球半導(dǎo)體量測設(shè)備KLA一家獨大,市場份額50.8%。5年來,KLA在全球5大半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)(AMAT、LAM、ASML、TEL)中,表現(xiàn)出了相對更穩(wěn)定的成長性和更高的盈利能力,其核心競爭力是:1)創(chuàng)新是命脈,50年來公司持續(xù)領(lǐng)跑各種復(fù)雜尖端的量測技術(shù),研發(fā)投入占比高達15%,21年達到9億美元。2)全面的產(chǎn)品組合,滿足客戶對精確度和吞吐量的雙重要求;3)強大的服務(wù)體系和供應(yīng)鏈管理:KLA全球裝機量近6萬臺,平均使用壽命12年,服務(wù)收入占比1/4左右。深厚的供應(yīng)商關(guān)系確保了供應(yīng)的連續(xù)性和高質(zhì)量,與KLA設(shè)計和制造業(yè)務(wù)密切協(xié)調(diào),確保無縫的客戶體驗。KLA基于強大的持續(xù)改進文化的指標(biāo)管理,用嚴(yán)格的組織和獨特的系統(tǒng)來管理復(fù)雜的全球供應(yīng)鏈。

科技脫鉤使得全球重塑芯片行業(yè)供應(yīng)鏈體系,21年本土量測設(shè)備國產(chǎn)化率僅2%,存在較大替代空間。預(yù)計26年中國晶圓廠產(chǎn)能將是22年底的2.8倍,國內(nèi)領(lǐng)先量測設(shè)備廠家的部分產(chǎn)品已進入一線產(chǎn)線驗證,推動國產(chǎn)化發(fā)展,差距有望持續(xù)縮?。?)產(chǎn)品覆蓋度:國內(nèi)龍頭的產(chǎn)品覆蓋度為27.2%,國內(nèi)龍頭企業(yè)加大產(chǎn)品研發(fā)力度,有望盡早實現(xiàn)50%以上的產(chǎn)品覆蓋度。2)工藝節(jié)點上:國內(nèi)企業(yè)已能覆蓋28nm及以上制程,持續(xù)研發(fā)28mn以下制程。同時三代化合物半導(dǎo)體襯底產(chǎn)能將達到600萬片/年(6英寸),由于其材料特性,某些制造工藝流程需要特定設(shè)備開發(fā),多數(shù)環(huán)節(jié)存在空白或補鏈的機會。

產(chǎn)業(yè)鏈?zhǔn)崂恚汉M忸I(lǐng)先廠商有KLA、應(yīng)用材料、日立、雷泰光學(xué)、創(chuàng)新科技;國內(nèi)廠商有中科飛測、上海睿勵、上海精測、賽騰股份(Optima)、東方晶源、埃芯半導(dǎo)體、優(yōu)睿譜等。

風(fēng)險提示:下游需求持續(xù)未復(fù)蘇,技術(shù)進步的速度低于預(yù)期。

本文源自券商研報精選

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