日本最近公布了23項半導體設備出口限制規(guī)則，雖然日本政府聲稱這不是針對任何一個特定的國家，但公眾認為這顯然是為了限制中國的半導體發(fā)展。如此行動顯示出日本對美國的積極配合，進一步確認了它在半導體制裁行列中的位置。

盡管日本在芯片制造工藝上僅能實現(xiàn)45nm芯片量產，并在芯片設計、制造和封測三大環(huán)節(jié)中并沒有出色的表現(xiàn)，但不可否認的是，離開日本，全球半導體產業(yè)可能會陷入停滯。

日本在半導體設備制造中的綜合實力和廣泛影響力并不亞于其它半導體強國。光刻機、清洗機、檢測設備和薄膜沉積設備等半導體制造環(huán)節(jié)中，都有日本設備的身影。

而日本此次公布的23項半導體設備限制規(guī)則，包括11項薄膜沉積設備、3項刻蝕設備、4項光刻設備、3項清洗設備、1項測試設備、1項熱處理設備。這些設備都是芯片制造過程中不可或缺的。

例如，光刻設備的作用是將電子芯片設計圖案投射到硅片上，對芯片的制造質量和效率有重要影響。

然而，中國對此的反應并不消極，相反，國內廠商已經在這些設備領域取得了一定的成就，長期發(fā)展目標下，會對日本限制的23項設備全部進行國產替代。

比如在薄膜沉積設備的領域，北方華創(chuàng)、拓荊科技和微導納米等國內廠商都已在該領域取得了一些進展；至純科技則在清洗設備領域領先；中微半導體公司的刻蝕機已經能做到5nm，甚至已經進入了臺積電生產線。

反過來看，如果日本繼續(xù)執(zhí)行這一限制，未來可能會對其自身產生負面影響。在全球化的今天，中國市場的重要性不言而喻。如果日本堅持這一政策，未來重新進入中國消費市場的難度將會增大。根據(jù)外媒的報道，日本首相岸田文雄已對此表示后悔。

總的來說，日本的這一限制規(guī)則在一定程度上對全球半導體供應鏈帶來了壓力，同時也給中國半導體制造業(yè)帶來了挑戰(zhàn)。不過，考慮到中國正在努力提升其在半導體技術和生產方面的自給自足能力，這些挑戰(zhàn)也可能進一步刺激中國發(fā)展國內半導體行業(yè)，從而使得半導體設備進一步國產化。

然而，這樣的決策可能對日本自身的經濟和政策產生負面影響。尤其是當中國半導體設備制造業(yè)得到進一步發(fā)展，能夠提供更多自主的和高質量的半導體設備時，日本在全球半導體設備市場的地位可能會受到威脅。

因此，盡管這個決策短期內可能會對中國的半導體行業(yè)產生影響，但長遠來看，這可能促進中國半導體設備制造業(yè)的發(fā)展，而對日本的影響可能是兩面性的。